反応性スパッタ法

反応性スパッタ法

[編集] 金属成膜技術

スパッタリングの手法の一つ。金属をスパッタする際に酸素や窒素を、チャンバー内に流すことで金属との酸化物や窒化物を人工的に製膜する技術。

次世代の磁気再生ヘッドとして期待されるTMR(トンネル磁気抵抗)素子の作製過程において、トンネル効果の絶縁障壁となるアルミナ薄膜作製の新手法として研究が進められている。